90/65纳米介质刻蚀机中微半导体设备(上海)有限公司中微半导体设备(上海)有限公司的90/65纳米介质刻蚀机荣获2008年度中国半导体创新产品和技术奖。 1产品简介中微公司
光刻机领域国内接近世界先进水平,9nm线宽光
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国内光刻机领域突破9nm线宽光刻技术
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28-15纳米去耦合反应等离子体介质刻蚀机 16
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北京电子展是高端国际性电子科技展览会
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我国5nm芯片制造设备问世 解决信息化军备芯
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Vishay发布的固钽贴片电容器刷新业内同类器件
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半导体设备国产化率提升存挑战-消费电子-恩智
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中微董事长兼CEO尹志尧、副总裁朱新萍接受
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半导体设备产业研究01:芯芯之火,可以燎原
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集成电路产业发展新形势与半导体分立器件发展
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一财研选|这个行业业绩持续超预期,加大配置机
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中国中微正式宣布掌握5nm技术!让对手措手不
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干得漂亮!美国涉嫌侵权中国芯设备专利!被侵权
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