清洗等技术于一体的CMP技术,是集成电路向微细化、多层化、薄型化、平坦化工艺发展的产物。同时也是晶圆由200mm向300mm乃至更大直径过渡、提高生产率、降低制造
如何分析和减少晶圆CMP工艺中的缺陷?
301x221 - 81KB - PNG
蓝宝石晶圆抛光机, 铜抛机. DMP, CMP(精密抛
800x600 - 179KB - JPEG
图片供应半导体晶圆转运CMP环PEEK
791x562 - 19KB - JPEG
首台国产CMP设备进入集成电路大生产线(201
404x389 - 185KB - PNG
【晶圆基板,8寸低粗糙度CMP抛光Eagle-XGS
210x210 - 10KB - JPEG
专业提供化学机械抛光机CMP配套用导电滑环
700x449 - 22KB - JPEG
半导体、晶圆、洁净度测量、HMDS、CMP、
500x460 - 17KB - JPEG
CMP晶圆抛光压力分布量测与分析应用
650x487 - 52KB - JPEG
CMP晶圆抛光压力分布量测与分析应用
249x337 - 18KB - JPEG
CMP晶圆抛光压力分布量测与分析应用
394x525 - 33KB - JPEG
晶圆厂这道工序曾让IBM年入数十亿,创新是半导
640x416 - 55KB - JPEG
晶圆厂这道工序曾让IBM年入数十亿,创新是半导
640x336 - 22KB - JPEG
【精密玻璃加工,4寸派来克斯7740CMP抛光晶
450x267 - 7KB - JPEG
专业提供化学机械抛光机CMP配套用导电滑环
800x1067 - 101KB - JPEG
超长寿命CMP环,peek_CMP研磨环,PPS_CMP
624x474 - 29KB - JPEG