半导体的常用掺杂技术主要有两种,即高温(热)扩散和离子注入.掺入的杂质主要有两类:第一类是提供载流子的受主杂质或施主杂质(如Si中的B、P、As);第二类是产生复合中心的
成功案例系列报道二:半导体行业选择勤卓恒温
500x343 - 29KB - JPEG
选择区掺杂方法研究 research on method of se
800x1131 - 279KB - PNG
图解半导体制程概论1-电子电路图,电子技术资
448x480 - 68KB - JPEG
半导体激光治疗仪作用_半导体激光治疗仪如何
303x220 - 9KB - JPEG
第二章:激光材料2解析.ppt
141x200 - 6KB - JPEG
半导体气敏传感器
535x214 - 31KB - JPEG
程:沙子做的CPU,凭啥卖那么贵?_中国半导体器
600x222 - 36KB - JPEG
九大关键词告诉你如何给孩子选择一盏好台灯?
554x292 - 16KB - JPEG
三氯氧磷(化学式:POCl3)常用作半导体掺杂剂及
358x197 - 10KB - JPEG
掺杂氧化铁纳米晶对重金属离子的晶面依赖选择
693x356 - 61KB - JPEG
子技术基础科学出社廖惜春(最完整)(包括选择题
800x1131 - 126KB - PNG
5nm的时候,芯片制造商有两种方案选择 - 5nm的
544x387 - 37KB - JPEG
半导体型乙醇气体传感器.doc
993x1404 - 150KB - PNG
Na相关掺杂及其N掺杂p型ZnO薄膜的制备与性
800x1168 - 368KB - PNG
Na相关掺杂及N掺杂p型ZnO薄膜的制备和性能
800x1168 - 48KB - PNG