物理气相沉积薄膜技术【相关词_ 物理气相沉积技术】

《物理气相沉积TiN薄膜技术条件(GB/T 18682-2002)》的附录A、附录B、附录C、附录D、附录E、附录F为规范性附录。由中国机械工业联合会提出。由全国金属与非金属覆

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GB\/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条

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薄膜沉积(Thin Film Deposition)--物理气相沉积

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《物理气相沉积TiN薄膜技术条件(GB\/T 18682

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半导体制程之薄膜沉积_电子设计应用_电子设

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物理气相沉积TiN薄膜技术条件(GB\/T 18682-20

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【供应采用物理气相沉积技术资料大全,薄膜加

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热丝化学气相沉积(hfcvd)制备金刚石薄膜技术_

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【GB\/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术

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