上海电子设备(集团)公司(SMEE)在2015就已经研发出14纳米光刻机,这次与南京光电所合作是再合适不过。 其实上海电子设备公司(SMEE)早2007年就研发出90纳米光刻机,后
【光刻机-紫外曝光机 MKNANO H94-27】南京
1000x667 - 157KB - JPEG
我国有了光刻机核心技术 - 今日头条(TouTiao.c
640x394 - 44KB - JPEG
【激光刻机激光】-激光刻机激光报价|厂家-黄页
480x520 - 23KB - JPEG
中科院光电所成功研制650mmX650mm大面积
455x610 - 222KB - PNG
中科院、上微研制成功新型光刻机,实现国产化
384x255 - 22KB - JPEG
光刻机(Mask Aligner)-【效果图,产品图,型号图
322x343 - 37KB - GIF
光刻机 电子 芯片 - 国内首台自主知识产权光刻
450x324 - 60KB - JPEG
中国芯片制造技术取得重大突破
500x342 - 56KB - JPEG
南京应用领域 数码影像 光刻制版 激光照排 母盘
922x612 - 597KB - PNG