任何光刻机都不行！国产7纳米芯片即将上市，大规模生产将在第四季度开始。

的本地化迫在眉睫。目前，国内芯片制造商也在加快芯片技术的研发，力争掌握更多核心技术，尽快赶上国际领先水平。同时，格力、阿里等国内巨头也加入了核心制作团队，开展中国核心的研发。作为中国大陆最大的芯片制造商，SMIC在过去两年里也承担了沉重的责任，中国人对此寄予厚望。

当然有。SMIC没有让中国人失望。去年年底，它实现了14纳米工艺芯片的大规模生产，推动国内芯片向前迈进了一大步。实现14纳米后，SMIC一直在不停地开发7纳米工艺芯片。最近，它首次向公众公开了N+1代和N+2代的过程。与14纳米工艺相比，SMIC首席执行官梁梦松表示，N+1代工艺的性能提高了20%，功耗降低了57%，芯片面积减少了55%。N+2代工艺比N+1代工艺实现了更高的性能改进，当然其成本更高。

SMIC的N+1代工艺相对接近TSMC的第一代7纳米工艺芯片，N+2代工艺相对接近TSMC的7纳米+工艺。SMIC去年完成了N+1代流媒体芯片。目前，客户正在进行产品验证，预计将于今年第四季度正式开始大规模生产

据报道，目前市场上成熟的7纳米工艺产品在功耗和稳定性方面与N+1代工艺相当，但在性能上仍有一定差距。虽然性能有了很大的提高，它只能接近TSMC或三星的10nm工艺，虽然N+2代工艺可与7nm工艺媲美，但与TSMC和三星的产品相比仍有一些差距。

应该注意的是，SMIC并不依赖EUV光刻技术来生产7纳米工艺芯片。也许是因为没有EUV这样的先进光刻设备，SMIC的7纳米产品无法与TSMC和三星的产品竞争。然而，TSMC的第一代7纳米工艺芯片也不使用EUV工艺技术。因此，第一代产品与EUV光刻设备的有无之间的关系相对较小。这也表明SMIC在技术上仍有一定差距，未来必须迎头赶上。

芯片的开发没有捷径，只能一步一个脚印。然而，EUV光刻机必须用于5纳米、3纳米和7纳米以后更先进的制造工艺的产品。然而，由于美国的原因，目前在中国订购的光刻机尚未交付。你知道这一次会影响SMIC未来的发展吗？SMIC能否在未来摆脱对外国制造商的依赖，推动SMIC变得真正强大？