不要等待EUV光刻机！随着新技术的诞生，SMIC有信心冲刺7纳米。

再也不用等EUV光刻机了！随着新技术的诞生，SMIC有信心冲刺7纳米。说到芯片制造商，我们首先想到的是TSMC，其次是SMIC事实上，SMIC仍然是一个非常年轻的企业，只有不到20年的历史。然而，我们都可以看到SMIC取得的成就。近年来，SMIC在芯片制造过程中不断取得进步。SMIC取得了长足的进步，甚至进入了全球芯片代工行业的前三名。这是我们非常自豪的事情。

毫无疑问，SMIC的成功给中国的半导体行业带来了很大的希望，因为在此之前，中国的半导体行业完全依靠大量的政府投资，而企业SMIC则成功地采用了“市场化运作”并取得了突破。从28纳米到14纳米再到现在的7纳米工艺，如果荷兰的ASML没有及时交付EUV光刻机，SMIC现在就会取得更大的成就。

不久前，SMIC首席执行官梁梦松带来了好消息，那就是，SMIC不再需要等待EUV光刻机，因为现在SMIC已经能够全力突破7纳米制程的壁垒。梁梦松还表示，中国芯国际可能会跳过10纳米的过程，在2020年直接达到7纳米

值得一提的是，目前SMIC已经掌握了14纳米工艺，14纳米芯片已经投入批量生产。此外，SMIC还宣布了一个好消息，即SMIC自主开发的N+1和N+2工艺将取代EUV光刻机完成7纳米工艺。在此工艺下生产的芯片性能提高了20%，功耗降低了一半。此外，芯片的逻辑面积和SoC面积大大减少，完全符合7纳米工艺技术的行业标准。

目前，N+1工艺和N+2芯片仍处于研发阶段。SMIC计划进行N+1工艺芯片的试生产，这意味着SMIC将成为世界上第三家掌握7纳米工艺的芯片代工企业。梁梦松还透露，在N+1工艺成熟后，SMIC将进一步探索N+2工艺，该工艺下的芯片性能将进一步提高

此外，SMIC还没有放下中低端芯片的技术。目前，第一代鳍式场效应晶体管技术，即14纳米技术，已经成功地实现了大规模生产。SMIC的下一个计划是推进第二代鳍式场效应晶体管技术(12纳米技术)的研发进程在取得许多成就后，SMIC向国际社会充分证明，即使没有ASML提供的光刻机，“SMIC”也能破茧而出，让世界眼花缭乱。