处理器进程接近1毫米AMD/英特尔等待技术顾问完成

作为世界上唯一一家能够生产EUV光刻机的公司，荷兰的ASML去年销售了26台EUV光刻机，主要是针对TSMC、三星的7纳米工艺和今年开始批量生产的5纳米工艺。预计今年将运送35台EUV平版印刷机

目前，ASML发运的光刻机主要是NXE:3400B和改进的NXE:3400C，两者基本结构相同，但NXE:3400C采用模块化设计，维护更加方便，平均维护时间将从48小时缩短到8-10小时，支持7纳米和5纳米。

此外，NXE:3400℃的生产能力也从125瓦时提高到175瓦时

无论NXE:3400B还是NXE:3400C，目前的EUV光刻机仍是第一代，主要特点是物镜系统的NA为0.33

根据光刻机的分辨率公式，NA值越高，光刻机的精度越高。ASML目前还在开发新一代EUV平版印刷机EXE:5000系列，NA 0.55。其主要合作伙伴是卡尔·蔡司和IMEC比利时微电子中心。下一代

EXE:5000系列光刻机主要面向后3纳米时代。目前，三星和TSMC发布的工艺路线图高达3纳米，2纳米甚至1纳米的工艺仍在考虑中。批量生产需要新的制造设备。新一代EUV光刻机是重中之重。

根据ASML信息，EXE:5000系列光刻机最早将于2021年上市，但原型将是第一批。它需要几年时间才能真正投入生产。乐观的观点是，在2023年或2024年之前，市场上不可能看到NA 0.55 EXE:5000系列光刻机。