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简介：CVD是Chemical Vapor Deposition的简称,是指高温下的气相反应。

cvd(chemical vapor deposition, 化学气相沉积)，指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在超大规模集成电路中很多薄膜都是采用cvd方法制备。经过cvd处理后，表面处理膜密着性约提高30%，防止高强力钢的弯曲，拉伸等成形时产生的刮痕。

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第四章 CVD工艺 力19900324|2018-06-29 |举报 专业文档 专业文档是百度文库认证用户/机构上传的专业性文档,文库VIP用户或购买专业文档下载特权礼包的其他会员用户可用

宁波晶钻工业科技有限公司通过CVD(ChemicalVaporDeposition)--大单晶金刚石生长技术,实现了钻石的实验室培育。据介绍,该公司培育的钻石成

C V D maimaidedeyiyu上传于2010-11-24|质量:5.0分|4313|1289|文档简介|举报 手机打开 材 料 化 学 下载文档到电脑,查找使用更方便 下载 还剩83页未读,继续阅读 定制HR最喜

CVD技术是什么? CVD技术是化学气相沉积Chemical Vapor Deposition的缩写。化学气相沉积乃是通过化学反应的方式,利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源,在反应器

上海钜晶专业提供生产用炉CVD&CVI系统,我们有高水平的专业知识和丰富的经验,为产品提供有力的技术支持保障。 全国免费咨询热线: 根据应用找设备 Previous Next 首页