利用变分法得到了SiGe源漏PMOS短沟道效应与SiGe源漏中Ge组分的关系,讨论了 Ge组分对器件稳定性的影响。结果表明,应变PMOS的阈值电压随Ge组分的增加而减小,沟道
pmos阈值电压_n2o对阈值电压影响_驱动tft 阈
607x511 - 40KB - JPEG
pmos阈值电压_n2o对阈值电压影响_驱动tft 阈
664x657 - 65KB - JPEG
pmos阈值电压_n2o对阈值电压影响_驱动tft 阈
575x505 - 41KB - JPEG
pmos阈值电压_n2o对阈值电压影响_驱动tft 阈
600x369 - 60KB - JPEG
pmos阈值电压_n2o对阈值电压影响_驱动tft 阈
500x375 - 43KB - JPEG
pmos阈值电压_n2o对阈值电压影响_驱动tft 阈
302x338 - 9KB - GIF
pmos阈值电压_n2o对阈值电压影响_驱动tft 阈
334x220 - 31KB - PNG
基于CMOS阈值电压的基准电路设计
767x468 - 27KB - JPEG
MOS晶体管-AET-电子技术应用
444x201 - 93KB - PNG
基于CMOS阈值电压的基准电路设计
579x525 - 95KB - JPEG
管子 阈值电压的问题 - Analog\/RF IC 设计讨论
319x470 - 12KB - PNG
图3 PMOS的Id-Vg转移曲线以及Id-Vd输出曲线
555x248 - 151KB - JPEG
差动运算放大器 差动放大器差动放大器-范文大
893x1869 - 61KB - PNG
基于cmos阈值电压的基准电路设计 - 电源技术
579x525 - 40KB - JPEG
一种用于分离pMOS器件热载流子应力下氧化层
800x1132 - 318KB - PNG