光刻工艺的一般过程【相关词_光刻工艺的一般步骤】

光刻工艺主要步骤 1.基片前处理为确保光刻胶能和晶圆表面很好粘贴形成平滑且结合得很好的膜必须进行表面准备保持表面干燥且干净 2.涂光刻胶涂胶的目标是在晶圆表面建

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