光刻工艺的要求:光刻工具具有高的分辨率;光刻胶具有高的光学敏感性;准 确地对准;大尺寸硅片的制造;低的缺陷密度。 光刻工艺过程 一般的光刻工艺要经历硅片 表面清洗烘干
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