该设备将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一镀膜设备里,既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜,同时又可利用在真空中以电阻加热将
VAKIA-ILC-C连续式光伏玻璃磁控溅射镀膜生产
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蒸发磁控溅射镀膜设备
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