IC制造工艺刻蚀光刻就是在光刻胶上形成图形下一步就是将光刻胶上的图形通过刻蚀转移到光刻胶下面的层上刻蚀工艺分为湿法和干法刻蚀的品质刻蚀的速率,即单位时间刻蚀
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