探讨了不同背景气体条件对刻蚀过程以及硅表面微结构的影响,得到了最佳的刻蚀背景气体条件。研究了微构造硅及其表面金属薄膜的从近紫外到中红外( 0. 3-16. 7la n )的吸收
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