5月23日,Intel宣布第二次重新调整自已光刻的发展策略,将放弃采用157nm的光刻机。这 标.但是在实现45nm结点中,Intel改变了现有的工艺路线。 目前,Intel有两家光刻机供应商
长江存储首台光刻机抵达武汉,可造14nm 3D N
530x258 - 209KB - PNG
中国首套90 nm高端光刻机通过验收_半导体\/P
490x329 - 422KB - PNG
挥刀进军10nm!台积电将引进EUV光刻机_CPU
500x334 - 30KB - JPEG
[大国战略]看一些人还跪着哭,也来聊聊国产机床
700x580 - 61KB - JPEG
EUV遭受新挫折 半导体10nm工艺步履维艰
471x343 - 127KB - JPEG
4.6亿元!长江存储喜提光刻机:可造14nm 3D闪
549x303 - 35KB - JPEG
euv的光刻机结构和原理
500x366 - 35KB - JPEG
中国芯突围战打响,购入2台光刻机,起步就是14
640x314 - 26KB - JPEG
光刻机领域国内接近世界先进水平,9nm线宽光
462x300 - 26KB - JPEG
ASML光刻机欠火候:三星\/台积电\/GF 7nm EUV
500x281 - 12KB - JPEG
虹12寸晶圆厂装备大陆最先进沉浸式光刻机:迈
508x482 - 133KB - JPEG
购入多台高端光刻机,中国芯突围战打响,14nm起
601x378 - 26KB - JPEG
超级好消息!中芯国际5nm工艺光刻机实现技术
720x720 - 69KB - JPEG
国内光刻机领域突破9nm线宽光刻技术
462x300 - 27KB - JPEG
【激光刻机激光】-激光刻机激光报价|厂家-黄页
480x520 - 23KB - JPEG