所述光刻胶层包括光酸产生剂,且优选是负性的。 1.一种可用作耐碱性保护层的光敏组合物,所述组合物是负性的,所述组合物包含溶解或分散在溶剂体系中的第一聚合物、第二聚
用于无氮化硅的硅湿蚀刻的耐碱性负性光刻胶
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