半导体光刻DUV_duv光刻

DUV投影光刻机和化学放大正性光刻胶(CAR)以及分辨率增强技术,在完成源漏制作等工 化合物半导体器件制作的报道中,采用电子束直写后,采用步进投影光刻机(波长248nm)和

半导体制程微缩 最后重要节点是7纳米|半导体|

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