光刻流程图_光刻工艺流程图

Printing)。掩膜板与光刻胶层的略微分开,大约 为 10～50μm。可以避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤。但是同时引入 了衍射效应,降低了分辨率。1970 后适用,但是其

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