干蚀刻工艺条件_干蚀刻工艺

因此,例如,对蚀刻气体的流量或压力、蚀刻中的半导体晶体的温度、在平行平板型等离子体蚀刻装置的电极上所加高频功率等的蚀刻条件进行调整,即使控制了上述侧壁部分的形

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