锑在4.5mol·dm一2H2SO4中恒电位阳极极化可形成以含Sb2O3为主的无定型n型半导体氧化膜;在0.05mol.dm-3H2SO4中形成Sb2O3单晶n型半导体,其施主密度虽然高于Pb(Ⅱ
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