气相外延是一种单晶薄层生长方法。气相外延广义上是化学气相沉积的一种特殊方式性质:在气相状态下,将半导体材料淀积在单晶片上,使它沿着单晶片的结晶轴方向生长出一层
气相外延_百科_搜搜钢
533x223 - 18KB - JPEG
气相外延_百科_搜搜钢
252x317 - 14KB - JPEG
氢化物气相外延氮化镓衬底的制备研究
724x475 - 42KB - PNG
金属有机化合物气相外延基础及应用_报价|金属
600x600 - 49KB - JPEG
金属有机化合物气相外延基础及应用:亚马逊:图
355x500 - 30KB - JPEG
氢化物气相外延(HVPE)-技术资料-51电子网
272x342 - 18KB - PNG
氢化物气相外延生长高质量gan膜生长参数优化
800x1131 - 327KB - PNG
金属有机化合物气相外延基础及应用(陆大成)【
280x280 - 16KB - JPEG
【图】金属有机化合物气相外延基础及应用 陆
200x308 - 8KB - JPEG
气相法
480x360 - 60KB - JPEG
《金属有机化合物气相外延基础及应用》陆大成
800x800 - 40KB - JPEG
金属有机化合物气相外延基础及应用介绍\/参数
200x200 - 4KB - JPEG
化学气相沉积碳化硅涂层的外延用衬托器 - 石墨
720x449 - 52KB - JPEG
二手气相外延炉进口报关公司
340x227 - 19KB - JPEG
《金属有机化合物气相外延 陆大成,段树坤 978
350x350 - 14KB - JPEG