离子束刻蚀【相关词_ 离子束刻蚀机】

主要用于各种金属以及氧化物等复杂体系的刻蚀等,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。 离子能量:100 - 650 eV 束流密度:0.2 - 0.7 mA/cm2 刻蚀均匀性:±5% ( 4英寸 )

离子束溅射与刻蚀系统科研装备研制项目通过

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离子束刻蚀、镀膜系统

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