深反应离子刻蚀硅【相关词_ 等离子硅刻蚀机】

【摘要】:本发明公开了一种基于无掩膜深反应离子刻蚀制备黑硅的方法。所述方法包括:对所述制备黑硅的方法的所采用的设备进行初始化和等离子稳定,以使等离子体进行辉光

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