文中列举了:通过SPM湿法光阻去除过程的工艺优化来提升产品薄栅氧氧化层电性厚度的稳定性;通过BOE湿法刻蚀工艺过程后硅表面微粗糙度的控制和优化来提升薄栅氧氧化层
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