不同晶向硅片的蚀刻率【相关词_ 硅片晶向】

其中干法刻蚀与晶体的晶向没有直接的关系, 仅靠轰击硅片 表面的高能粒子的方向来实现控制, 而湿法腐蚀则主要依靠不同晶面的腐蚀速率之间的差异 来实现的。例如,在诸如悬

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