磁控溅射法,在不同工作压强下制备了氧化钨(WO_3)薄膜,研究了工作压强对WO_3膜层 9 杨超群;水热法制备氧化钨膜及其光电性能研究[D];华中科技大学;2015年 10 王力梅;氧
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