化学气相沉积设备结构【相关词_ 化学气相沉积设备】

化学气相沉积(CVD)技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。在典型的CVD 高度自动化的大产能PECVD设备,适用于SiO2、SiNx、SiOxNy等多种介质薄膜沉积。

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