光刻胶应用领域_ 机会情报：光刻胶作为光刻过程核心材料 相关公司迎机遇

外汇天眼APP问:光刻胶作为光刻工艺的核心材料，质量和性能直接决定集成电路的性能、成品率。 随着先进节点所需抗蚀剂分辨率的提高和多次构图技术的应用，抗蚀剂的成本占有率和市场规模呈现不断提高的趋势，SEMI数据显示，2018年抗蚀剂在晶片制造材料中所占的比例约为5.4%，全球半导体抗蚀剂市场整体规模为17.3亿美元

机构通过对国内晶片投资情况的统计，认为工厂建设热潮直接使晶片代理产业链迅速增长，光刻胶直接应用于实际生产过程，采购具有较快的特点，预计2019年至2020年国内光刻胶需求将迅速释放。 国家政策推进自主控制，国内光刻胶技术逐步突破，代理厂商分配供应商风险，使国内晶片代理厂商提高国产光刻胶的接受，为国内优质光刻胶厂商提供快速成长的机会。

相关概念股:

江化微( 603078 ) :公司主要业务是开发、生产和销售超纯高纯度试剂、光刻胶组合试剂等湿式电子化学品。

容大感光( 300576 ) :公司光刻胶产品主要包括紫外正、紫外负两种产品和稀释剂、显影液、剥离液等化学药品，主要应用于平板显示器、发光二极管、集成电路等领域。

上海新阳( 300236 ) :公司为拓展业务范围和产品应用领域，成立控股公司上海芯刻微材料技术有限责任公司开展了193nm(ArF )干光刻胶的开发和产业化项目。