光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的,它是由一种特殊的化工合成材料,通过专用设备瞬间发出强光辐射
光敏印章的面世可以说是印章行业的一次革命,完全颠覆了传统印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。
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